实用新型
- 专利标题: 控制溶液氟离子装置
- 专利标题(英): Control solution fluorine ion device
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申请号: CN201520098273.4申请日: 2015-02-11
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公开(公告)号: CN204702589U公开(公告)日: 2015-10-14
- 发明人: 谭发祥
- 申请人: 崇越科技股份有限公司
- 申请人地址: 中国台湾台北市内湖区堤顶大道2段483号6楼
- 专利权人: 崇越科技股份有限公司
- 当前专利权人: 苏州崇越工程有限公司
- 当前专利权人地址: 中国台湾台北市内湖区堤顶大道2段483号6楼
- 代理机构: 北京律诚同业知识产权代理有限公司
- 代理商 王玉双; 尚群
- 主分类号: C02F9/04
- IPC分类号: C02F9/04 ; C02F101/14
摘要:
一种控制溶液氟离子装置,包含溶液反应设备、第一输送设备以及第二输送设备。溶液反应设备包含桶槽,桶槽装有含氟离子废水;第一输送设备连接溶液反应设备,输送含钙盐添加物至桶槽,含钙盐添加物与含氟离子废水反应形成第一溶液,其包含氟化钙沉淀物以及氟离子;第二输送设备连接溶液反应设备,输送含磷酸盐废水或含磷酸盐污泥至桶槽,含磷酸盐废水(或含磷酸盐污泥)与第一溶液反应形成第二溶液,其包含羟基磷酸钙沉淀物、氟化钙沉淀物以及氟离子,其中,部分的氟离子吸附于羟基磷酸钙沉淀物。