实用新型
- 专利标题: 一种石膏抹灰雕刻结构
- 专利标题(英): Gypsum sculpture structure of plastering
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申请号: CN201621257085.2申请日: 2016-11-22
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公开(公告)号: CN206328982U公开(公告)日: 2017-07-14
- 发明人: 杨辽豫 , 余枫 , 曾昭波 , 郭纯 , 史美晨 , 魏中奇 , 孙涛 , 刘舒妍 , 罗金兰 , 刘伟东 , 苏宁 , 曹帅帅 , 栾广东 , 卢龙龙 , 王明伟 , 臧同磊 , 贺庆巧 , 秦瑶 , 顾文华 , 何佳南
- 申请人: 中冶建筑研究总院有限公司 , 中国京冶工程技术有限公司
- 申请人地址: 北京市海淀区西土城路33号10号楼;
- 专利权人: 中冶建筑研究总院有限公司,中国京冶工程技术有限公司
- 当前专利权人: 中冶建筑研究总院有限公司,中国京冶工程技术有限公司
- 当前专利权人地址: 北京市海淀区西土城路33号10号楼;
- 代理机构: 北京北新智诚知识产权代理有限公司
- 代理商 倪中翔; 王淳
- 主分类号: E04F13/04
- IPC分类号: E04F13/04
摘要:
一种石膏抹灰雕刻结构,它包括具有施工面的墙体,该墙体外侧涂设有底层石膏抹灰,该底层石膏抹灰的表面凹凸不平;该底层石膏抹灰外侧涂设有雕刻层石膏抹灰,该雕刻层石膏抹灰表面设有与该底层石膏抹灰表面对应的凹凸结构。本实用新型的石膏抹灰雕刻结构除了其健康环保、阻燃隔热性好、粘结力强、操作简单等优势以外,与常规的以表面光滑平整为标准的饰面抹灰工程相比,还具有主题性强、可塑性高、层薄质轻等特点。
IPC分类: