实用新型
- 专利标题: 一种掩膜板
- 专利标题(英): Mask plate
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申请号: CN201720514260.X申请日: 2017-05-10
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公开(公告)号: CN206721352U公开(公告)日: 2017-12-08
- 发明人: 修海志 , 马群 , 王建强 , 王铁
- 申请人: 京东方科技集团股份有限公司 , 鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司
- 申请人地址: 北京市朝阳区酒仙桥路10号
- 专利权人: 京东方科技集团股份有限公司,鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司
- 当前专利权人: 京东方科技集团股份有限公司,鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司
- 当前专利权人地址: 北京市朝阳区酒仙桥路10号
- 代理机构: 北京天昊联合知识产权代理有限公司
- 代理商 刘悦晗; 陈源
- 主分类号: C23C14/04
- IPC分类号: C23C14/04 ; C23C14/24 ; H01L51/56 ; H01L51/00
摘要:
本实用新型提供一种掩膜板,包括阻挡部和多个拼接设置的子掩膜板,阻挡部在子掩膜板所在平面的正投影覆盖相邻子掩膜板之间的间隙,且阻挡部的材料为非磁性材料。在蒸镀过程中,磁力组件所产生磁力不会对阻挡部产生吸力,相应阻挡部不会对子掩膜板施加作用力,因此,可以减小子掩膜板的边缘的变形量,避免子掩膜板发生变形或褶皱,从而避免背板产生混色不良,进而提高蒸镀工艺的良率。
IPC分类: