硅基Ge光探测器阵列
Abstract:
本实用新型提供一种硅基Ge光探测器阵列及其制作方法,所述制作方法包括:1)于硅衬底中形成N++型掺杂层;2)于N++型掺杂层表面形成本征Ge层;3)于本征Ge层表面形成P+型掺杂区阵列;4)于各P+型掺杂区之间形成N+型掺杂区;5)于各P+型掺杂区及各N+型掺杂区表面形成上金属电极;6)于各P+型掺杂区之间刻蚀出深槽,形成隔离结构。实用新型通过在相邻硅基Ge光探测器之间形成深槽,切断相邻所述硅基Ge光探测器之间光电流的串扰路径,从而减小或消除相邻所述硅基Ge光探测器之间光电流的串扰,使得位于所述硅基Ge光探测器阵列结构边缘的硅基Ge光探测器的光电流可以和位于硅基光Ge探测器阵列结构中心的硅基Ge光探测器的光电流相接近。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利
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