Utility Model
- Patent Title: 硅基Ge光探测器阵列
- Patent Title (English): Silica -based ge light detector array
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Application No.: CN201720132169.1Application Date: 2017-02-14
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Publication No.: CN206849844UPublication Date: 2018-01-05
- Inventor: 仇超 , 武爱民 , 盛振 , 高腾 , 甘甫烷 , 赵颖璇 , 李军
- Applicant: 上海新微科技服务有限公司 , 中国科学院上海微系统与信息技术研究所 , 中科院南通光电工程中心
- Applicant Address: 上海市嘉定区菊园新区环城路2222号1幢1048室
- Assignee: 上海新微科技服务有限公司,中国科学院上海微系统与信息技术研究所,中科院南通光电工程中心
- Current Assignee: 上海新微技术研发中心有限公司,中国科学院上海微系统与信息技术研究所
- Current Assignee Address: 201800 上海市嘉定区城北路235号1号楼
- Agency: 上海光华专利事务所
- Agent 罗泳文
- Main IPC: H01L27/146
- IPC: H01L27/146 ; H01L31/18

Abstract:
本实用新型提供一种硅基Ge光探测器阵列及其制作方法,所述制作方法包括:1)于硅衬底中形成N++型掺杂层;2)于N++型掺杂层表面形成本征Ge层;3)于本征Ge层表面形成P+型掺杂区阵列;4)于各P+型掺杂区之间形成N+型掺杂区;5)于各P+型掺杂区及各N+型掺杂区表面形成上金属电极;6)于各P+型掺杂区之间刻蚀出深槽,形成隔离结构。实用新型通过在相邻硅基Ge光探测器之间形成深槽,切断相邻所述硅基Ge光探测器之间光电流的串扰路径,从而减小或消除相邻所述硅基Ge光探测器之间光电流的串扰,使得位于所述硅基Ge光探测器阵列结构边缘的硅基Ge光探测器的光电流可以和位于硅基光Ge探测器阵列结构中心的硅基Ge光探测器的光电流相接近。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利
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IPC分类: