实用新型

一种真空离子镀膜炉体
摘要:
本实用新型公开了一种真空离子镀膜炉体,真空室为筒状腔室,在该筒状腔室内壁设置进抽气口对接件和多弧源对接件、磁控溅射源对接件;进气口和抽气口安装于进抽气口对接件,进气口与进气动力源装置连接,抽气口与抽真空装置连接;多弧源和多弧靶、磁控溅射源和磁控溅射靶分别安装于多弧源对接件和磁控溅射源对接件;在真空室的筒状腔室内部安装所述辅助加热装置。由于在真空室内同时设有弧源装置和磁控溅射装置,在一台镀膜机上既可进行多弧离子镀膜,又可进行磁控溅射镀膜,也可同时进行两种方式的镀膜或先一种镀膜再另一种镀膜,具有一机多用、适用性广、镀膜产品丰富的优点,弧源装置和磁控溅射装置圆周阵列布置,保证涂层的均匀性。
0/0