本实用新型公开了一种采用浊度参数控制水下成像设备曝光值的装置，包括主体，所述主体设置有成像舱、光源舱，所述成像舱的上端口设置有浊度计，所述成像舱、光源舱的表面均设置有扰流罩，所述成像舱、光源舱的上方设置有拖曳防护架，所述成像舱、光源舱的上端一侧均固定连接有横梁支架，所述拖曳防护架的下端且相对于成像舱、光源舱设置有横梁，所述横梁与横梁支架固定连接，所述成像舱的内部下端一侧设置有光源控制板，所述成像舱的内部下端另一侧设置有相机，所述光源舱的内部一侧设置有光源，所述主体的上端一侧设置有浊度传感器。本实用新型中，可有效进行一个使用。