本实用新型涉及真空脱羟炉技术领域，且公开了一种半导体石英玻璃制品用真空脱羟炉，包括底座和炉体，所述炉体固定设置于底座的上表面，所述炉体的左侧壁两端均开设有滑槽，两个所述滑槽的内部均滑动设置有滑杆，两个所述滑杆的左端之间设置有盖板，所述盖板的两端均通过转杆与对应的滑杆转动连接，所述盖板的下端两侧均固定设置有支撑板，两个所述支撑板的表面均放置有放置架，所述炉体的上表面中部设置有固定所述盖板的限位机构。本实用新型能够同时进行卸料和加工，大大的减少了设备停机时间，提高了加工效率。