实用新型
- 专利标题: 消光结构、消光装置及模具
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申请号: CN202320159198.2申请日: 2023-01-17
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公开(公告)号: CN219676369U公开(公告)日: 2023-09-12
- 发明人: 樊利 , 蔡烨程 , 孙难见
- 申请人: 华为技术有限公司
- 申请人地址: 广东省深圳市龙岗区坂田华为总部办公楼
- 专利权人: 华为技术有限公司
- 当前专利权人: 华为技术有限公司
- 当前专利权人地址: 广东省深圳市龙岗区坂田华为总部办公楼
- 代理机构: 北京汇思诚业知识产权代理有限公司
- 代理商 马立峰
- 主分类号: G02B26/02
- IPC分类号: G02B26/02 ; G02B5/00 ; G03B11/00 ; G03B11/04 ; G03B15/06
摘要:
本申请提供了一种消光结构、消光装置及模具,消光结构包括工作面及设置于工作面上的纹理单元,单个或多个纹理单元周期性间隔设置,相邻两个纹理单元的间隔周期T为80‑900μm,纹理单元相对于工作面凸起的高度H为20‑180μm。本申请提供的消光结构、消光装置及模具能在制件表面形成微结构,该结构能使得照射进纹理单元间隙内的光线在纹理单元之间多次反射、折射,进而降低光线的强度。相比于现有技术,本申请中的方案成本低、稳定性好且不易失效。