本实用新型公开了一种多晶硅还原炉抛光清洁装置，具体涉及清洁装置领域，包括支撑板、支腿、底板、进液管、出液管以及炉体，支撑板底端设置有多个支腿，支撑板底端中部安装有底板，底板底部对称安装有进液管和出液管，支撑板顶端支撑安装有炉体，支撑板两侧对称安装有夹持机构，两个夹持机构对炉体两侧进行夹持压接，底板中部安装有抛光清洁机构，抛光清洁机构顶端插入炉体内部，抛光清洁机构两侧安装有伸缩杆，两个伸缩杆顶端插入炉体内部且与抛光清洁机构顶端衔接。本实用新型具有方便对炉体进行固定，防止炉体在抛光清洁时产生振动，且防止伸缩抛光刷对炉体内壁进行清洁抛光时产生硬性碰撞，从而使得抛光更加均匀，清洁更加彻底的优点。