外观设计
- 专利标题： 中空阴极霍尔离子源
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申请号： CN202030351764.1申请日： 2020-07-02
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公开(公告)号： CN306329223S公开(公告)日： 2021-02-12
- 设计人: 刘伟基 , 冀鸣 , 易洪波 , 赵刚 , 吴秋生 , 曾文华 , 刘运鸿
- 申请人： 中山市博顿光电科技有限公司
- 申请人地址： 广东省中山市火炬开发区科技东路39号之二219、220室
- 专利权人： 中山市博顿光电科技有限公司
- 当前专利权人： 中山市博顿光电科技有限公司
- 当前专利权人地址： 广东省中山市火炬开发区科技东路39号之二219、220室
- 代理机构： 北京市立方律师事务所
- 代理商 刘延喜
- LOC分类号： 15-99
摘要：
1.本外观设计产品的名称：中空阴极霍尔离子源。
2.本外观设计产品的用途：本外观设计产品可适用于需要大束流、低能量离子的表面预清洁或辅助镀膜沉积等应用领域。
3.本外观设计产品的设计要点：在于形状。
4.最能表明设计要点的图片或照片：立体图。
2.本外观设计产品的用途：本外观设计产品可适用于需要大束流、低能量离子的表面预清洁或辅助镀膜沉积等应用领域。
3.本外观设计产品的设计要点：在于形状。
4.最能表明设计要点的图片或照片：立体图。
