发明授权
- 专利标题： Shadow mask arrangement and method of manufacture
- 专利标题（中）： 阴影掩模布置和制造方法
-
申请号： EP82304506.7申请日： 1982-08-26
-
公开(公告)号： EP0073654B1公开(公告)日： 1985-11-21
- 发明人: Takenaka, Shigeo c/o Patent Division , Kamohara, Eiji c/o Patent Division
- 申请人： KABUSHIKI KAISHA TOSHIBA
- 申请人地址： 72, Horikawa-cho, Saiwai-ku Kawasaki-shi, Kanagawa-ken 210 JP
- 专利权人： KABUSHIKI KAISHA TOSHIBA
- 当前专利权人： KABUSHIKI KAISHA TOSHIBA
- 当前专利权人地址： 72, Horikawa-cho, Saiwai-ku Kawasaki-shi, Kanagawa-ken 210 JP
- 代理机构： Kirk, Geoffrey Thomas
- 优先权： JP137001/81 19810902
- 主分类号： H01J29/07
- IPC分类号： H01J29/07 ; H01J9/14
公开/授权文献
- EP0073654A2 Shadow mask arrangement and method of manufacture 公开/授权日：1983-03-09
信息查询
