发明授权
- 专利标题： Plasma devices
- 专利标题（中）： 等离子体装置
-
申请号： EP82109022.2申请日： 1982-09-29
-
公开(公告)号： EP0075953B1公开(公告)日： 1986-01-22
- 发明人: Kageyama, Katsuhiro
- 申请人： KABUSHIKI KAISHA TOSHIBA
- 申请人地址： 72, Horikawa-cho, Saiwai-ku Kawasaki-shi, Kanagawa-ken 210 JP
- 专利权人： KABUSHIKI KAISHA TOSHIBA
- 当前专利权人： KABUSHIKI KAISHA TOSHIBA
- 当前专利权人地址： 72, Horikawa-cho, Saiwai-ku Kawasaki-shi, Kanagawa-ken 210 JP
- 代理机构： Patentanwälte
- 优先权： JP153763/81 19810930; JP197732/81 19811210; JP197733/81 19811210; JP38153/82 19820312; JP38158/82 19820312; JP38159/82 19820312
- 主分类号： H05H1/11
- IPC分类号： H05H1/11
公开/授权文献
- EP0075953A1 Plasma devices 公开/授权日：1983-04-06
信息查询
IPC分类:
