利索-全球专利检索

  1. 登录
  2. 注册
发明公开
EP0076868A1 Elektronenstrahl-Gravierverfahren und Einrichtung zu seiner Durchführung 失效
Elektronenstrahl-Gravierverfahren und Einrichtung zu seinerDurchführung。

  • 专利标题： Elektronenstrahl-Gravierverfahren und Einrichtung zu seiner Durchführung
  • 专利标题（英）： Electron beam engraving method and apparatus for carrying it out
  • 专利标题（中）： Elektronenstrahl-Gravierverfahren und Einrichtung zu seinerDurchführung。
  • 申请号： EP81108156.1
    申请日： 1981-10-10
  • 公开(公告)号： EP0076868A1
    公开(公告)日： 1983-04-20
  • 发明人: Beisswenger, Siegfried
  • 申请人： DR.-ING. RUDOLF HELL GmbH
  • 申请人地址： Grenzstrasse 1-5 D-24149 Kiel DE
  • 专利权人： DR.-ING. RUDOLF HELL GmbH
  • 当前专利权人： DR.-ING. RUDOLF HELL GmbH
  • 当前专利权人地址： Grenzstrasse 1-5 D-24149 Kiel DE
  • 主分类号： H01J37/302
  • IPC分类号： H01J37/302 ;  B41C1/00
Elektronenstrahl-Gravierverfahren und Einrichtung zu seiner Durchführung
摘要：
Zur Gravur unterschiedlicher Näpfchengeometrien wird bei der Druckformherstellung mit Elektronenstrahlen der Abbildungsmaßstab der Elektronenquelle auf der Druckformoberfläche tonwertabhängig moduliert. Die Leistungsdichteverteilung im Wirkpunkt des Elektronenstrahls kann dann für alle Tonwerte annähernd rechteckförmig sein. insbesondere die bislang kritische Gravur der kleinen Näpfchen ist damit stabil.
摘要（中）：

1.一种用于在印刷块表面产生不同尺寸的屏幕针孔的电子束雕刻工艺，其中屏幕针孔是通过瞄准表面的可聚焦电子束的作用产生的，其在操作位置被聚焦在或在 其特征在于，除了作用期间和焦点位置之外，电荷载体源在印刷块表面（4）上的再现规模同时作为色调值的函数被控制。

公开/授权文献
信息查询
Global Dossier Espacenet
0/0