发明授权
- 专利标题： Exposure apparatus and method of aligning exposure mask with workpiece
- 专利标题（中）： 曝光装置和工件曝光掩模的方法
-
申请号： EP84115889.2申请日： 1984-12-20
-
公开(公告)号： EP0148477B1公开(公告)日： 1991-09-04
- 发明人: Oshida, Yoshitada , Shiba, Masataka , Nakata, Toshihiko , Koizumi, Mitsuyoshi , Nakashima, Naoto
- 申请人： HITACHI, LTD.
- 申请人地址： 6, Kanda Surugadai 4-chome Chiyoda-ku, Tokyo 100 JP
- 专利权人： HITACHI, LTD.
- 当前专利权人： HITACHI, LTD.
- 当前专利权人地址： 6, Kanda Surugadai 4-chome Chiyoda-ku, Tokyo 100 JP
- 代理机构： Beetz & Partner Patentanwälte
- 优先权： JP243866/83 19831226; JP222010/84 19841024
- 主分类号： G03B41/00
- IPC分类号： G03B41/00
公开/授权文献
信息查询
