发明公开
EP0200816A2 Nachträgliche Abdichtung von Deponien und kontaminierten Flächen
失效
NachträglicheAbdichtung von Deponien und kontaminiertenFlächen。
- 专利标题: Nachträgliche Abdichtung von Deponien und kontaminierten Flächen
- 专利标题(英): Ulterior sealing of waste tips and contaminated surfaces
- 专利标题(中): NachträglicheAbdichtung von Deponien und kontaminiertenFlächen。
-
申请号: EP85114114.3申请日: 1985-11-06
-
公开(公告)号: EP0200816A2公开(公告)日: 1986-11-12
- 发明人: Schlütter, Aloys , Kaewert, Klaus
- 申请人: Niederberg-Chemie GmbH
- 申请人地址: Postfach 11 63 D-4133 Neukirchen-Vluyn DE
- 专利权人: Niederberg-Chemie GmbH
- 当前专利权人: Niederberg-Chemie GmbH
- 当前专利权人地址: Postfach 11 63 D-4133 Neukirchen-Vluyn DE
- 优先权: DE3516822 19850510
- 主分类号: E02D31/00
- IPC分类号: E02D31/00 ; E02D19/18 ; B09B1/00
摘要:
Nach der Erfindung wird eine nachträgliche Abdichtung unter vorhandene Deponien und/oder kontaminierte Flächen dadurch erreicht, daß Profilstränge nacheinander unter die Deponie bzw. die kontaminierte Fläche gezogen oder geschoben werden, die sich dabei zu einer Abdichtung miteinander verbinden.
公开/授权文献
信息查询