发明公开
EP0200816A2 Nachträgliche Abdichtung von Deponien und kontaminierten Flächen 失效
NachträglicheAbdichtung von Deponien und kontaminiertenFlächen。

  • 专利标题: Nachträgliche Abdichtung von Deponien und kontaminierten Flächen
  • 专利标题(英): Ulterior sealing of waste tips and contaminated surfaces
  • 专利标题(中): NachträglicheAbdichtung von Deponien und kontaminiertenFlächen。
  • 申请号: EP85114114.3
    申请日: 1985-11-06
  • 公开(公告)号: EP0200816A2
    公开(公告)日: 1986-11-12
  • 发明人: Schlütter, AloysKaewert, Klaus
  • 申请人: Niederberg-Chemie GmbH
  • 申请人地址: Postfach 11 63 D-4133 Neukirchen-Vluyn DE
  • 专利权人: Niederberg-Chemie GmbH
  • 当前专利权人: Niederberg-Chemie GmbH
  • 当前专利权人地址: Postfach 11 63 D-4133 Neukirchen-Vluyn DE
  • 优先权: DE3516822 19850510
  • 主分类号: E02D31/00
  • IPC分类号: E02D31/00 E02D19/18 B09B1/00
Nachträgliche Abdichtung von Deponien und kontaminierten Flächen
摘要:
Nach der Erfindung wird eine nachträgliche Abdichtung unter vorhandene Deponien und/oder kontaminierte Flächen dadurch erreicht, daß Profilstränge nacheinander unter die Deponie bzw. die kontaminierte Fläche gezogen oder geschoben werden, die sich dabei zu einer Abdichtung miteinander verbinden.
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