发明授权
- 专利标题： Verfahren zur Herstellung einer räumlich periodischen Halbleiter-Schichtenfolge
- 专利标题（英）： Method of making a spatially periodic semiconductor multilayer structure
- 专利标题（中）： 制备空间半导体多层结构的方法
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申请号： EP86106541.5申请日： 1986-05-14
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公开(公告)号： EP0207266B1公开(公告)日： 1990-03-21
- 发明人: Herzog, Hans J. , Jorke, Helmut , Kibbel, Horst
- 申请人： Licentia Patent-Verwaltungs-GmbH
- 申请人地址： Theodor-Stern-Kai 1 60596 Frankfurt DE
- 专利权人： Licentia Patent-Verwaltungs-GmbH
- 当前专利权人： Licentia Patent-Verwaltungs-GmbH
- 当前专利权人地址： Theodor-Stern-Kai 1 60596 Frankfurt DE
- 代理机构： Schulze, Harald Rudolf, Dipl.-Ing.
- 优先权： DE3517701 19850517; DE3527363 19850731
- 主分类号： H01L29/14
- IPC分类号： H01L29/14
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