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EP0258079B1 Composition à base de chlorure de méthylène- son utilisation pour l'enlèvement des films photoresist 失效
基于甲基氯化物的组合物及其在光电子剥离中的应用

  • 专利标题： Composition à base de chlorure de méthylène- son utilisation pour l'enlèvement des films photoresist
  • 专利标题（英）： Composition based on methylene chloride and its use in photoresist stripping
  • 专利标题（中）： 基于甲基氯化物的组合物及其在光电子剥离中的应用
  • 申请号： EP87401626.4
    申请日： 1987-07-09
  • 公开(公告)号： EP0258079B1
    公开(公告)日： 1992-02-19
  • 发明人: Campos, Michel , Boussaguet, Jean-Charles , Letullier, Jean-Philippe
  • 申请人： ELF ATOCHEM S.A.
  • 申请人地址： 4 & 8, Cours Michelet, La Défense 10 92800 Puteaux FR
  • 专利权人： ELF ATOCHEM S.A.
  • 当前专利权人： ELF ATOCHEM S.A.
  • 当前专利权人地址： 4 & 8, Cours Michelet, La Défense 10 92800 Puteaux FR
  • 优先权： FR8610529 19860721
  • 主分类号： C23G5/028
  • IPC分类号： C23G5/028 ;  G03F7/26
Composition à base de chlorure de méthylène- son utilisation pour l'enlèvement des films photoresist
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