发明公开
- 专利标题： Elektrotauchlack
- 专利标题（英）： Composition for electrophoretic enamelling
- 专利标题（中）： Elektrotauchlack。
-
申请号： EP88100762.9申请日： 1988-01-20
-
公开(公告)号： EP0279198A1公开(公告)日： 1988-08-24
- 发明人: Geist, Michael, Dr. , Fobbe, Helmut, Dr. , Strauss, Udo, Dr. , Ott, Günther, Dr. , Arlt, Klaus, Dr. , Cibura, Klaus, Dr.
- 申请人： BASF Lacke + Farben AG
- 申请人地址： Glasuritstrasse 1 48165 Münster-Hiltrup DE
- 专利权人： BASF Lacke + Farben AG
- 当前专利权人： BASF Lacke + Farben AG
- 当前专利权人地址： Glasuritstrasse 1 48165 Münster-Hiltrup DE
- 代理机构： Münch, Volker, Dr.
- 优先权： DE3701547 19870121
- 主分类号： C08G18/10
- IPC分类号： C08G18/10 ; C08G18/28 ; C08G18/32 ; C08G18/48 ; C09D7/06 ; C09D5/44
摘要：
Die Erfindung betrifft ein Polyetherurethan der allgemeinen Formel
in der bedeuten:
R¹ = H oder ein Alkydrest mit 1 bis 8 C-Atomen
R² = ein Alkylenrest mit 2 bis 10 C-Atomen oder ein Cycloalkylenrest mit 6 bis 20 C-Atomen oder ein Arylenrest mit 6 bis 20 C-Atomen
R³, R⁴ = ein ggf. substituierter Alkylrest mit 1 bis 8 C-Atomen oder ein gemeinsamer Ring, dessen Glieder R³ und R⁴ sind
n = 2 bis 180
m = 1 bis 15
Die Erfindung betrifft ferner ein Verfahren zu seiner Herstellung, ein Verlaufshilfsmittel für wäßrige Lacke und die Verwendung der Polyetherurethane als Verlaufshilfsmittel in wäßrigen, kathodisch abscheidbaren Elektrotauchlacken.
in der bedeuten:
R¹ = H oder ein Alkydrest mit 1 bis 8 C-Atomen
R² = ein Alkylenrest mit 2 bis 10 C-Atomen oder ein Cycloalkylenrest mit 6 bis 20 C-Atomen oder ein Arylenrest mit 6 bis 20 C-Atomen
R³, R⁴ = ein ggf. substituierter Alkylrest mit 1 bis 8 C-Atomen oder ein gemeinsamer Ring, dessen Glieder R³ und R⁴ sind
n = 2 bis 180
m = 1 bis 15
Die Erfindung betrifft ferner ein Verfahren zu seiner Herstellung, ein Verlaufshilfsmittel für wäßrige Lacke und die Verwendung der Polyetherurethane als Verlaufshilfsmittel in wäßrigen, kathodisch abscheidbaren Elektrotauchlacken.
公开/授权文献
- EP0279198B1 Elektrotauchlack 公开/授权日：1992-07-15
信息查询
