发明公开
- 专利标题: Verfahren zur Herstellung von kristallinen Natriumschichtsilikaten
- 专利标题(英): Process for the preparation of crystalline layered sodium silicates
- 专利标题(中): 制备结晶层状硅酸钠的方法
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申请号: EP88120434.1申请日: 1988-12-07
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公开(公告)号: EP0320770A3公开(公告)日: 1989-10-25
- 发明人: Rieck, Hans-Peter, Dr. , Schott, Martin, Dr. , Ott, Willy , Gohla, Werner
- 申请人: HOECHST AKTIENGESELLSCHAFT
- 申请人地址: 65926 Frankfurt am Main DE
- 专利权人: HOECHST AKTIENGESELLSCHAFT
- 当前专利权人: HOECHST AKTIENGESELLSCHAFT
- 当前专利权人地址: 65926 Frankfurt am Main DE
- 优先权: DE3742043 19871211
- 主分类号: C01B33/32
- IPC分类号: C01B33/32 ; C11D3/08
摘要:
Röntgenkristalline Natriumsilikate mit Schichtstruktur, die ein Molverhältnis SiO₂ : Na₂O von 1,9 bis 3,5 aufweisen, werden dadurch hergestellt, daß man ein röntgenkristallines Natriumsilikat mit Schichtstruktur und einem Molverhältnis SiO₂ : Na₂O von 1,9 bis 3,5 in Wasser auflöst und die Lösung bei Remperaturen von 20 bis 445 °C eindampft. Zur Herstellung von Wasch- oder Reinigungsmitteln wird ein Gemisch aus Tensiden und Buildern, das noch Füllstoffe, Bleichmittel, Bleichaktivatoren und Enzyme enthalten kann, mit Wasser angeteigt, mit einem röntgenkristallinen Natriumschichtsilikat mit einem Molverhältnis SiO₂ : Na₂O von 1,9 bis 3,5 versetzt, durchmischt und dann sprühgetrocknet.
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