发明授权
- 专利标题: Method and apparatus for processing a fine pattern
- 专利标题(中): 用于处理的微细结构的方法和装置
-
申请号: EP89122906.4申请日: 1989-12-12
-
公开(公告)号: EP0376045B1公开(公告)日: 2001-05-16
- 发明人: Yamaguchi, Hiroshi , Saito, Keiya , Miyauchi, Tateoki
- 申请人: Hitachi, Ltd.
- 申请人地址: 6, Kanda Surugadai 4-chome Chiyoda-ku, Tokyo JP
- 专利权人: Hitachi, Ltd.
- 当前专利权人: Hitachi, Ltd.
- 当前专利权人地址: 6, Kanda Surugadai 4-chome Chiyoda-ku, Tokyo JP
- 代理机构: Altenburg, Udo, Dipl.-Phys.
- 优先权: JP32576888 19881226
- 主分类号: H01L21/30
- IPC分类号: H01L21/30 ; G03F1/00
公开/授权文献
- EP0376045A3 Method and apparatus for processing a fine pattern 公开/授权日:1991-01-16
信息查询
IPC分类: