发明公开
EP0377175A2 Pattern forming composition and process for forming pattern using the same
失效
Zusammensetzung zur Strukturherstellung und Strukturherstellungsverfahren damit。
- 专利标题： Pattern forming composition and process for forming pattern using the same
- 专利标题（中）： Zusammensetzung zur Strukturherstellung und Strukturherstellungsverfahren damit。
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申请号： EP89123670.5申请日： 1989-12-21
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公开(公告)号： EP0377175A2公开(公告)日： 1990-07-11
- 发明人: Shiraishi, Hiroshi , Ueno, Takumi , Hayashi, Nobuaki , Fukuma, Emiko , Toriumi, Minoru
- 申请人： HITACHI, LTD. , Hitachi Chemical Co., Ltd.
- 申请人地址： 6, Kanda Surugadai 4-chome Chiyoda-ku, Tokyo 101 JP
- 专利权人： HITACHI, LTD.,Hitachi Chemical Co., Ltd.
- 当前专利权人： HITACHI, LTD.,Hitachi Chemical Co., Ltd.
- 当前专利权人地址： 6, Kanda Surugadai 4-chome Chiyoda-ku, Tokyo 101 JP
- 代理机构： Beetz & Partner Patentanwälte
- 优先权： JP327781/88 19881227
- 主分类号： G03F7/075
- IPC分类号： G03F7/075
摘要：
A negative-type pattern (6) forming composition comprising (a) a silanol compound having one or more hydroxyl groups in average bonded to one silicon atom, and (b) an acid precursor, and if necessary, (c) an alkali-soluble resin, can give a pattern (6) with high sensitivity and high resolution.
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