发明公开
- 专利标题: APPARATUS AND PROCESS FOR COOLING A PLASMA ARC ELECTRODE
- 专利标题(中): 装置和方法用于冷却等离子弧。
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申请号: EP89905547.0申请日: 1989-04-27
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公开(公告)号: EP0391984A1公开(公告)日: 1990-10-17
- 发明人: SANDERS, Nicholas, A. , COUCH, Richard, W., Jr.
- 申请人: HYPERTHERM, INC.
- 申请人地址: P.O. Box A-10 Etna Road Hanover, NH 03755 US
- 专利权人: HYPERTHERM, INC.
- 当前专利权人: HYPERTHERM, INC.
- 当前专利权人地址: P.O. Box A-10 Etna Road Hanover, NH 03755 US
- 代理机构: Attfield, Donald James, et al
- 优先权: US19880249407 19880926
- 国际公布: WO1990003243 19900405
- 主分类号: B23K9
- IPC分类号: B23K9 ; B23K10 ; H05H1
摘要:
Dans un chalumeau à arc de plasma, une électrode (22) est mobile axialement en vue de son branchement électrique sur et de son débranchement d'avec une anode (20), en général un ajutage fixé à une extrémité d'un corps de chalumeau (12). Un écoulement (26c) de gaz de plasma pressurisé est dirigé vers une chambre à plasma (36) entre l'électrode (32) et l'ajutage (20), de préférence par l'intermédiaire d'une bague à turbulence remplaçable (18) qui entoure étroitement et guide l'électrode au niveau d'un épaulement de plus grand diamètre de l'électrode. Un passage d'écoulement de gaz (48), de préférence un passage en spiral usiné sur la surface latérale extérieure de l'épaulement, détourne une partie du flux gazeux provenant de la chambre à plasma vers une région située au-dessus de l'électrode où elle est déchargée dans l'atmosphère. Le passage est suffisamment rétréci pour faire apparaître le long de la trajectoire une chute de pression importante, tout en laissant en même temps un écoulement suffisant pour produire le refroidissement désiré.
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