发明授权
- 专利标题： Electrophotosensitive material and method of manufacturing the same
- 专利标题（中）： 电光敏材料和工艺及其制备
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申请号： EP90118496.0申请日： 1990-09-26
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公开(公告)号： EP0420207B1公开(公告)日： 1997-08-13
- 发明人: Katsukawa, Masato , Kimoto, Keizo, Room No. 301 , Tsujita, Mitsuji , Miura, Satoru
- 申请人： MITA INDUSTRIAL CO. LTD.
- 申请人地址： 2-28, 1-chome, Tamatsukuri Chuo-ku Osaka-shi Osaka 540 JP
- 专利权人： MITA INDUSTRIAL CO. LTD.
- 当前专利权人： MITA INDUSTRIAL CO. LTD.
- 当前专利权人地址： 2-28, 1-chome, Tamatsukuri Chuo-ku Osaka-shi Osaka 540 JP
- 代理机构： Bohnenberger, Johannes, Dr.
- 优先权： JP251585/89 19890927; JP251586/89 19890927; JP251587/89 19890927; JP251588/89 19890927; JP251589/89 19890927
- 主分类号： G03G5/05
- IPC分类号： G03G5/05
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