Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung von Mikrostrukturkörpern mit Strukturtiefen von mehreren µm bis in den mm-Bereich durch bildmäßiges Bestrahlen von Polymeren, die auf elektrisch leitfähigen Trägern mittels einer Haftschicht aufgebracht sind, mit Synchrotronstrahlung und Entfernen der bildmäßig bestrahlten Bereiche, wobei die Haftschicht aus mindestens zwei unterschiedlichen chemischen Elementen besteht, die durch gleichzeitiges Aufdampfen oder Kathodenzerstäubung auf den leitfähigen Träger aufgebracht werden und vor dem Auftragen des Polymeren selektiv oder teilweise entfernt werden.
Das Verfahren eignet sich zur Herstellung von Mikrostrukturkörpern aus Metallen oder Kunststoff.