发明授权
- 专利标题: METHOD OF MANUFACTURING A SEMICONDUCTOR THIN FILM TRANSISTOR
- 专利标题(中): 用于生产薄膜半导体晶体管的
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申请号: EP95921972.6申请日: 1995-06-15
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公开(公告)号: EP0714140B1公开(公告)日: 2003-09-03
- 发明人: MIYASAKA, Mitsutoshi
- 申请人: SEIKO EPSON CORPORATION
- 申请人地址: 4-1, Nishishinjuku 2-chome Shinjuku-ku, Tokyo 163-0811 JP
- 专利权人: SEIKO EPSON CORPORATION
- 当前专利权人: SEIKO EPSON CORPORATION
- 当前专利权人地址: 4-1, Nishishinjuku 2-chome Shinjuku-ku, Tokyo 163-0811 JP
- 代理机构: Hoffmann, Eckart, Dipl.-Ing.
- 优先权: JP13337494 19940615; JP7214495 19950329
- 国际公布: WO95034916 19951221
- 主分类号: H01L21/205
- IPC分类号: H01L21/205 ; G02F1/136 ; H01L21/336 ; H01L21/20 ; C23C16/24
公开/授权文献
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