发明授权
- 专利标题： Verfahren zum Trockenreinigen von staubverschmutzten Hilfsgegenständen, die zur Handhabung und Aufbewahrung von Halbleiterwafern vorgesehen sind.
- 专利标题（英）： Method for dry cleaning dust soiled objects for carrying and keeping semi-conductor wafers
- 专利标题（中）： 这提供了用于处理和存储半导体晶片用于干洗灰尘污染的辅助对象的方法。
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申请号： EP97109257.2申请日： 1997-06-07
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公开(公告)号： EP0813230B1公开(公告)日： 2006-07-26
- 发明人: Stroh, Rüdiger Joachim, Dipl.-Ing. , Schweinoch, Bozenka , Trefzer, Martin , Thomas, Uwe , Allmann, Erich , Coad, Craid
- 申请人： Micronas Semiconductor Holding AG
- 申请人地址： Technopark Technoparkstrasse 1 8005 Zürich CH
- 专利权人： Micronas Semiconductor Holding AG
- 当前专利权人： Micronas Semiconductor Holding AG
- 当前专利权人地址： Technopark Technoparkstrasse 1 8005 Zürich CH
- 代理机构： Göhring, Robert
- 优先权： DE19623766 19960614
- 主分类号： H01L21/00
- IPC分类号： H01L21/00 ; B08B5/02 ; B08B9/08 ; B08B9/34
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