发明公开
- 专利标题： Radiation sensitive composition
- 专利标题（中）： Strahlung-empfindliche Zusammensetzung
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申请号： EP98104928.1申请日： 1998-03-18
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公开(公告)号： EP0866367A2公开(公告)日： 1998-09-23
- 发明人: Nagatsuka, Tomio , Nakamura, Toshio , Iijima, Takahiro , Shimada, Satoshi , Itoh, Yukiko , Nemoto, Hiroaki
- 申请人： JSR Corporation
- 申请人地址： 11-24, Tsukiji 2-chome, Chuo-ku Tokyo 104-0045 JP
- 专利权人： JSR Corporation
- 当前专利权人： JSR Corporation
- 当前专利权人地址： 11-24, Tsukiji 2-chome, Chuo-ku Tokyo 104-0045 JP
- 代理机构： Bühling, Gerhard, Dipl.-Chem.
- 优先权： JP84639/97 19970319; JP297955/97 19971016
- 主分类号： G03C7/12
- IPC分类号： G03C7/12 ; G03F7/027 ; G03F7/09 ; G02B5/20
摘要：
A radiation sensitive composition containing (A) at least one colorant selected from an azo pigment, a cyclic diketone pigment and a perylene pigment, (B) an alkali-soluble resin, (C) a polyfunctional monomer and (D) a photopolymerization initiator.
公开/授权文献
- EP0866367A3 Radiation sensitive composition 公开/授权日：1998-10-28
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