发明公开
- 专利标题： Grabkammer mit einem einen Hohlraum bildenden Unterteil
- 专利标题（英）： Burial vault with a lower element forming a cavity
- 专利标题（中）： 具有空腔形成碱严重室
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申请号： EP98710018.7申请日： 1998-11-20
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公开(公告)号： EP0918120A3公开(公告)日： 2000-03-22
- 发明人: Strauff, Günter P.
- 申请人： Tiefbau Strauff Ingenieurbau GmbH & Co. KG
- 申请人地址： Probsteistrasse 12 52222 Stolberg DE
- 专利权人： Tiefbau Strauff Ingenieurbau GmbH & Co. KG
- 当前专利权人： Tiefbau Strauff Ingenieurbau GmbH & Co. KG
- 当前专利权人地址： Probsteistrasse 12 52222 Stolberg DE
- 代理机构： Castell, Klaus, Dr.
- 优先权： DE19751753 19971121; DE19850083 19981030
- 主分类号： E04H13/00
- IPC分类号： E04H13/00
摘要：
Um Grabkammern (92) in einer möglichst geringen Tiefe in einem Grabfeld anzuordnen, wird vorgeschlagen, daß zwischen dem Unterteil (2) und dem Deckel (3) einer Grabkammer eine Dichtung (10) angeordnet ist. Vorzugsweise ist auch die Luftöffnung, soweit in dieser eine Leitung (94) bzw. ein Filtergehäuse geführt ist, mit einer Dichtung versehen. Der Grabkammerdeckel (3) kann als Pflanztrog ausgebildet sein.
公开/授权文献
- EP0918120A2 Grabkammer mit einem einen Hohlraum bildenden Unterteil 公开/授权日：1999-05-26
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