发明授权
EP1046184B1 Quadrupole device for projection lithography by means of charged particles
有权
通过带电粒子的装置，用于投影光刻设备四极
- 专利标题： Quadrupole device for projection lithography by means of charged particles
- 专利标题（中）： 通过带电粒子的装置，用于投影光刻设备四极
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申请号： EP99946148.6申请日： 1999-09-07
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公开(公告)号： EP1046184B1公开(公告)日： 2003-12-03
- 发明人: KRIJN, Marcellinus, P., C., M.
- 申请人： Koninklijke Philips Electronics N.V.
- 申请人地址： Groenewoudseweg 1 5621 BA Eindhoven NL
- 专利权人： Koninklijke Philips Electronics N.V.
- 当前专利权人： Koninklijke Philips Electronics N.V.
- 当前专利权人地址： Groenewoudseweg 1 5621 BA Eindhoven NL
- 代理机构： Bakker, Hendrik
- 优先权： EP98203014 19980909
- 国际公布： WO00014767 20000316
- 主分类号： H01J37/317
- IPC分类号： H01J37/317 ; H01J37/30
公开/授权文献
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