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EP1055414B1 Kosmetische oder dermatologische Lichtschutzzubereitungen mit einem Gehalt an Bornitrid und sulfonierten UV-Filtersubstanzen sowie die Verwendung von Bornitrid zur Stabilisierung von Emulsionen, die einen Gehalt an Elektrolyten, insbesondere einen Gehalt an sulfonierten UV-Filtersubstanzen, aufweisen 有权
含有氮化硼和磺化UV过滤物质和用于稳定乳液,其具有电解质的含量使用氮化硼的化妆品或皮肤病学的防晒制剂,尤其是磺化的UV过滤物质的含量,

  • 专利标题: Kosmetische oder dermatologische Lichtschutzzubereitungen mit einem Gehalt an Bornitrid und sulfonierten UV-Filtersubstanzen sowie die Verwendung von Bornitrid zur Stabilisierung von Emulsionen, die einen Gehalt an Elektrolyten, insbesondere einen Gehalt an sulfonierten UV-Filtersubstanzen, aufweisen
  • 专利标题(英): Cosmetic or dermatological photoprotective preparations containing boron nitride and sulfonated UV filters as well as the use of boron nitride to stabilize emulsions containing electrolytes, especially sulfonated UV filters
  • 专利标题(中): 含有氮化硼和磺化UV过滤物质和用于稳定乳液,其具有电解质的含量使用氮化硼的化妆品或皮肤病学的防晒制剂,尤其是磺化的UV过滤物质的含量,
  • 申请号: EP00109131.3
    申请日: 2000-05-05
  • 公开(公告)号: EP1055414B1
    公开(公告)日: 2003-08-06
  • 发明人: Gers-Barlag, Heinrich, Dr.Müller, Anja
  • 申请人: Beiersdorf Aktiengesellschaft
  • 申请人地址: Unnastrasse 48 20245 Hamburg DE
  • 专利权人: Beiersdorf Aktiengesellschaft
  • 当前专利权人: Beiersdorf Aktiengesellschaft
  • 当前专利权人地址: Unnastrasse 48 20245 Hamburg DE
  • 优先权: DE19923773 19990522
  • 主分类号: A61K7/42
  • IPC分类号: A61K7/42
Kosmetische oder dermatologische Lichtschutzzubereitungen mit einem Gehalt an Bornitrid und sulfonierten UV-Filtersubstanzen sowie die Verwendung von Bornitrid zur Stabilisierung von Emulsionen, die einen Gehalt an Elektrolyten, insbesondere einen Gehalt an sulfonierten UV-Filtersubstanzen, aufweisen
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