发明授权
- 专利标题： Method and system for optical proximity correction
- 专利标题（中）： 方法和系统，用于校正的光学邻近效应（OPC）
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申请号： EP00309198.0申请日： 2000-10-19
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公开(公告)号： EP1094366B8公开(公告)日： 2006-11-02
- 发明人: Haffner, Henning , Hoenigschmid, Heinz , Samuels, Donald J.
- 申请人： Infineon Technologies AG , International Business Machines Corporation
- 申请人地址： St. Martin-Strasse 53 81669 München DE
- 专利权人： Infineon Technologies AG,International Business Machines Corporation
- 当前专利权人： Infineon Technologies AG,International Business Machines Corporation
- 当前专利权人地址： St. Martin-Strasse 53 81669 München DE
- 代理机构： Vigars, Christopher Ian
- 优先权： US422634 19991021
- 主分类号： G03F7/20
- IPC分类号： G03F7/20 ; G03F1/14
公开/授权文献
- EP1094366B1 Method and system for optical proximity correction 公开/授权日：2006-09-20
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