发明公开
- 专利标题： Element with antistat layer
- 专利标题（中）： Element mit einer antistatischen Schicht
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申请号： EP02080302.9申请日： 2002-12-16
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公开(公告)号： EP1324125A2公开(公告)日： 2003-07-02
- 发明人: Castle, Richard A., c/o Eastman Kodak Company , Chen, Janglin, c/o Eastman Kodak Company , Majumdar, Debasis, c/o Eastman Kodak Company
- 申请人： EASTMAN KODAK COMPANY
- 申请人地址： 343 State Street Rochester, New York 14650 US
- 专利权人： EASTMAN KODAK COMPANY
- 当前专利权人： EASTMAN KODAK COMPANY
- 当前专利权人地址： 343 State Street Rochester, New York 14650 US
- 代理机构： Weber, Etienne Nicolas
- 优先权： US36127 20011226
- 主分类号： G03C1/85
- IPC分类号： G03C1/85 ; B41M5/00 ; G03G7/00
摘要：
An imaging element comprising: a support; at least one image forming layer; and an antistat layer, wherein said antistat layer comprises: a chlorinated polyolefin and a conductive agent.
公开/授权文献
- EP1324125A3 Element with antistat layer 公开/授权日：2004-01-14
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