发明授权

  • 专利标题: Procédé de report de couches minces semi-conductrices à partir d'une plaquette donneuse.
  • 专利标题(英): Process for transfering semiconductor thin layers from a donor wafer.
  • 专利标题(中): 半导体薄膜从胶片源传送的方法。
  • 申请号: EP02293182.8
    申请日: 2002-12-20
  • 公开(公告)号: EP1324385B1
    公开(公告)日: 2012-05-23
  • 发明人: Letertre, FabriceMaurice, Thibaut
  • 申请人: Soitec
  • 申请人地址: Parc Technologique des Fontaines Chemin des Franques 38190 Bernin FR
  • 专利权人: Soitec
  • 当前专利权人: Soitec
  • 当前专利权人地址: Parc Technologique des Fontaines Chemin des Franques 38190 Bernin FR
  • 代理机构: Le Forestier, Eric
  • 优先权: FR0116713 20011221
  • 主分类号: H01L21/18
  • IPC分类号: H01L21/18 H01L21/20 H01L21/762 H01L29/12
Procédé de report de couches minces semi-conductrices à partir d'une plaquette donneuse.
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