METHODS AND REACTORS FOR FORMING SUPERCONDUCTOR LAYERS

发明授权

EP1419538B1 METHODS AND REACTORS FOR FORMING SUPERCONDUCTOR LAYERS 有权

标题翻译：方法和反应堆用于生产超导体层

专利标题： METHODS AND REACTORS FOR FORMING SUPERCONDUCTOR LAYERS
专利标题（中）： 方法和反应堆用于生产超导体层
申请号： EP02805695.0

申请日： 2002-07-30
公开(公告)号： EP1419538B1

公开(公告)日： 2007-03-07
发明人: Fritzemeier, Leslie G. , Verebelyi, Darren P. , Rupich, Martin W. , Zhang, Wei , Li, Qi , Li, Xiaoping
申请人： AMERICAN SUPERCONDUCTOR CORPORATION
申请人地址： Two Technology Drive Westborough, MA 01581-1727 US
专利权人： AMERICAN SUPERCONDUCTOR CORPORATION
当前专利权人： AMERICAN SUPERCONDUCTOR CORPORATION
当前专利权人地址： Two Technology Drive Westborough, MA 01581-1727 US
代理机构： Reinhard - Skuhra - Weise & Partner
优先权： US308957P 20010731
国际公布： WO2003067672 20030814
主分类号： H01L39/00
IPC分类号： H01L39/00

摘要：

Superconductor reactors, methods and systems are disclosed.

公开/授权文献

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IPC分类:

H	电学
H01	基本电气元件
H01L	半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件（使用半导体器件的测量入G01；一般电阻器入H01C；磁体、电感器、变压器入H01F；一般电容器入H01G；电解型器件入H01G9/00；电池组、蓄电池入H01M；波导管、谐振器或波导型线路入H01P；线路连接器、汇流器入H01R；受激发射器件入H01S；机电谐振器入H03H；扬声器、送话器、留声机拾音器或类似的声机电传感器入H04R；一般电光源入H05B；印刷电路、混合电路、电设备的外壳或结构零部件、电气元件的组件的制造入H05K；在具有特殊应用的电路中使用的半导体器件见应用相关的小类）
H01L39/00	应用超导电性的或高导电性的器件，专门适用于制造或处理这些器件或其部件的方法或设备（由在一共用衬底内或其上形成的多个固态组件组成的器件入H01L27/00；按陶瓷形成的工艺或陶瓷组合物性质区分的超导体入C04B35/00；超导或高导体、电缆或传输线入H01B12/00；超导线圈或绕组入H01F；利用超导电性的放大器入H03F19/00）