发明公开
- 专利标题： PLASMA FILM-FORMING METHOD AND APPARATUS THEREFOR
- 专利标题（中）： 等离子体膜的制造方法及其装置
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申请号： EP05780931申请日： 2005-08-25
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公开(公告)号： EP1786029A4公开(公告)日： 2009-01-07
- 发明人: KOBAYASHI YASUO , NISHIZAWA KENICHI , KAMESHIMA TAKATOSHI , ISAKI RYUICHIRO , SHINRIKI MANABU
- 申请人： TOKYO ELECTRON LTD , TAIYO NIPPON SANSO CORP , OHMI TADAHIRO
- 专利权人： TOKYO ELECTRON LTD,TAIYO NIPPON SANSO CORP,OHMI TADAHIRO
- 当前专利权人： TOKYO ELECTRON LTD,TAIYO NIPPON SANSO CORP,OHMI TADAHIRO
- 优先权： JP2004245700 2004-08-25; JP2005225717 2005-08-03
- 主分类号： H01L21/31
- IPC分类号： H01L21/31 ; B01D53/26 ; C23C16/44 ; H01L21/314 ; H01L21/768
摘要：
A plasma film-forming method which comprises providing a purifying chamber (2) packed with a substance having a surface layer exhibiting a hydrophilic property or reducing action between a source (1) for supplying a C
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