发明公开
EP1802178A3 Vorrichtung zur kontaktlosen Beseitigung einer elektrostatischen Doppelladungsschicht 审中-公开
装置的非接触去除静电电荷双层的

  • 专利标题: Vorrichtung zur kontaktlosen Beseitigung einer elektrostatischen Doppelladungsschicht
  • 专利标题(英): Device for the contactless removal of electrostatic charge from a double-layer material
  • 专利标题(中): 装置的非接触去除静电电荷双层的
  • 申请号: EP06118255.6
    申请日: 2006-08-01
  • 公开(公告)号: EP1802178A3
    公开(公告)日: 2010-12-29
  • 发明人: Ludwig, Thomas
  • 申请人: Eltex-Elektrostatik GmbH
  • 申请人地址: Blauenstrasse 67-69 79576 Weil am Rhein DE
  • 专利权人: Eltex-Elektrostatik GmbH
  • 当前专利权人: Eltex-Elektrostatik GmbH
  • 当前专利权人地址: Blauenstrasse 67-69 79576 Weil am Rhein DE
  • 代理机构: Meissner, Bolte & Partner
  • 优先权: DE102005061332 20051221; DE202006009823U 20060623
  • 主分类号: H05F3/04
  • IPC分类号: H05F3/04
Vorrichtung zur kontaktlosen Beseitigung einer elektrostatischen Doppelladungsschicht
摘要:
Vorrichtung (10; 20; 30; 40) zur kontaktlosen Beseitigung einer elektrostatischen Ladungsdoppelschicht von einem geförderten flächigen, elektrisch im wesentlichen isolierenden Material (11; 21), enthaltend
eine dem flächigen Material in einem ersten Bereich benachbart angeordnete kontaktlose Kompensationseinrichtung (16-19; 26-29) zur Zuführung von Ladungsträgern zum flächigen Material im ersten Bereich zur mindestens teilweisen Kompensation der Ladungen mindestens in einer Schichtebene der Ladungsdoppelschicht; ein dem flächigen Material (11; 21) in einem zweiten Bereich benachbartes elektrisch leitfähiges Element (13; 24; 313; 424) zur Ausbildung eines elektrischen Nahfeldes, wobei der zweite Bereich und der erste Bereich voneinander entfernt sind, und
eine dem zweiten Bereich zugeordnete Feldstärkemesseinrichtung (15; 25) zur Erfassung der Feldstärke des Nahfeldes,
wobei die Kompensationseinrichtung (16-19; 26-29) eingangsseitig mit der Feldstärkemesseinrichtung (15; 25) verbunden und zur gesteuerten Zuführung von Ladungsträgern zum Material auf das Erfassungsergebnis ausgebildet ist.
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