制剂包含至少一种含噻吩并呋喃化合物（Ia）和/或噻吩化合物（Ib）的重复单元的聚噻吩化合物; 至少一种含金属 - 三氧化硫离子（SO 3 - > M +）的聚合物; 和含有至少一种金属三氧化硫离子（SO 3→M +）或金属 - 羰基离子（COO→M +））的部分氟化或全氟化聚合物。 制剂至少包含含有重复单元的聚噻吩化合物，例如式（Ia）的噻吩并呋喃化合物和/或式（Ib）的噻吩化合物; 含有至少一种金属 - 三氧化硫离子（SO 3 - > M +）的聚合物（A）; 和至少含有金属三氧化硫离子（SO 3→M +）或金属羰基离子（COO→M +））的部分氟化或全氟化聚合物（B）。 任选取代的1-5C亚烷基，例如乙烯（优选）或丙烯; Y 1> O或S; R：1-18C-烷基，5-12C-环烷基，6-14C-芳基，7-18C-芳基烷基，1-4C-羟基烷基或OH; x：0-8，优选0; 和M + H +，Na +，K +（全部优选），Rb +，Cs +，Li +或NH 4 +。 。 条件是：R与A键合; 当Y 1>为O时，重复单元为（Ia），当Y 1>为S时，重复单元为（Ib）。 独立权利要求包括：（1）制备（I）的方法，包括任选在溶液或分散体形式的稀释剂存在下将聚噻吩和（A）与（B）混合; 和（2）电致发光器件，优选地包括至少两个电极的光二极管，其中在电极之间可选地，至少一个电极施加在透明衬底上，至少一个发射极层和含有该制剂的空穴注入层。 [图片]。