发明公开
EP1843394A2 Halbleiter-Strahlungsquelle sowie Lichthärtgerät
审中-公开
Halbleiter-Strahlungsquelle sowieLichthärtgerät
- 专利标题： Halbleiter-Strahlungsquelle sowie Lichthärtgerät
- 专利标题（英）： Semi-conductor radiation source and light hardening apparatus
- 专利标题（中）： Halbleiter-Strahlungsquelle sowieLichthärtgerät
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申请号： EP07001222.4申请日： 2007-01-20
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公开(公告)号： EP1843394A2公开(公告)日： 2007-10-10
- 发明人: Plank, Wolfgang , Senn, Bruno
- 申请人： Firma Ivoclar Vivadent AG
- 申请人地址： Bendererstrasse 2 9494 Schaan LI
- 专利权人： Firma Ivoclar Vivadent AG
- 当前专利权人： Firma Ivoclar Vivadent AG
- 当前专利权人地址： Bendererstrasse 2 9494 Schaan LI
- 代理机构： Baronetzky, Klaus
- 优先权： DE102006015335 20060403
- 主分类号： H01L25/16
- IPC分类号： H01L25/16
摘要：
Es ist eine Halbleiter-Strahlungsquelle mit einem Basiskörper vorgesehen, auf dem mindestens zwei LED-Chips gelagert sind, von denen mindestens ein Chip mit einem abgleichbaren Vorwiderstand verbunden ist. Die LED-Chips (12, 14) sind in Wärmeleitverbindung auf dem Basiskörper (24) angebracht sind und auf dem Basiskörper (24) ist auch mindestens eine Printplatte (30) gelagert, die den Vorwiderstand (40, 42) trägt.
公开/授权文献
- EP1843394B1 HALBLEITER-STRAHLUNGSQUELLE UND LICHTHÄRTGERÄT MIT DIESER 公开/授权日：2019-03-27
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