发明授权
- 专利标题： Projection exposure apparatus for EUV lithography
- 专利标题（中）： 用于EUV光刻的投射曝光设备
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申请号： EP07818215.1申请日： 2007-09-18
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公开(公告)号： EP1927032B1公开(公告)日： 2013-01-23
- 发明人: EHM, Dirk, Heinrich , MUELLENDER, Stephan , STEIN, Thomas , MOORS, Johannes, Hubertus, Josephina , WOLSCHRIJN, Bastiaan, Theodoor , KRAUS, Dieter , VERSLUIS, Richard , MEIJERINK, Marcus, Gerhardus, Hendrikus
- 申请人： Carl Zeiss SMT GmbH , ASML Netherlands B.V.
- 申请人地址： Rudolf-Eber-Strasse 2 73447 Oberkochen DE
- 专利权人： Carl Zeiss SMT GmbH,ASML Netherlands B.V.
- 当前专利权人： Carl Zeiss SMT GmbH,ASML Netherlands B.V.
- 当前专利权人地址： Rudolf-Eber-Strasse 2 73447 Oberkochen DE
- 代理机构： Kohler Schmid Möbus
- 优先权： DE102006044591 20060919
- 国际公布： WO2008034582 20080327
- 主分类号： G03F7/20
- IPC分类号： G03F7/20
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