发明公开
EP1962337A2 Procede de préparation d' un materiau diélectrique à porosité orientée sur substrat par traitement électromagnétique et/ou photonique
审中-公开
具有的孔隙率引导到由电磁和/或光子处理的基片的电介质材料的制造方法
- 专利标题： Procede de préparation d' un materiau diélectrique à porosité orientée sur substrat par traitement électromagnétique et/ou photonique
- 专利标题（英）： Method of preparing a dielectric material with oriented porosity on a substrate by electromagnetic and/or photonic treatment
- 专利标题（中）： 具有的孔隙率引导到由电磁和/或光子处理的基片的电介质材料的制造方法
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申请号： EP08101901.0申请日： 2008-02-22
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公开(公告)号： EP1962337A2公开(公告)日： 2008-08-27
- 发明人: ZENASNI, Aziz
- 申请人： Commissariat à l'Energie Atomique
- 申请人地址： 25, rue Leblanc Immeuble "Le Ponant D" 75015 Paris FR
- 专利权人： Commissariat à l'Energie Atomique
- 当前专利权人： Commissariat à l'Energie Atomique
- 当前专利权人地址： 25, rue Leblanc Immeuble "Le Ponant D" 75015 Paris FR
- 代理机构： Poulin, Gérard
- 优先权： FR0753451 20070223
- 主分类号： H01L21/316
- IPC分类号： H01L21/316 ; H01L21/312 ; C08J9/26 ; B05D3/06 ; B05D3/14
摘要：
L'invention a trait à un procédé de fabrication d'un matériau diélectrique à porosité orientée sur un substrat comprenant :
a)le dépôt en phase vapeur sur un substrat d'une couche composite, comprenant un matériau formant une matrice et un composé comprenant des groupes chimiques aptes à s'orienter sous l'effet d'un champ électromagnétique et/ou d'un rayonnement photonique ;
b)le traitement de la couche composite pour obtenir la réticulation du matériau formant une matrice ;
ledit procédé comprenant, en outre, une étape c) consistant à soumettre ledit substrat revêtu de ladite couche composite à un champ électromagnétique et/ou un rayonnement photonique, ladite étape c) étant réalisée simultanément à l'étape a), lorsque l'on soumet ladite couche à un rayonnement photonique ou étant réalisée avant et/ou simultanément à l'étape b), lorsque l'on soumet ladite couche à un champ électromagnétique, sachant que le champ électromagnétique est appliqué au contact du substrat, cette étape c) étant réalisée de sorte à aligner selon une direction prédéterminée les groupes chimiques mentionnées à l'étape a).
Application au domaine de la microélectronique, aux membranes séparatrices, aux membranes de diffusion, aux détecteurs moléculaires, aux matériaux optiques, aux masques polymères.
a)le dépôt en phase vapeur sur un substrat d'une couche composite, comprenant un matériau formant une matrice et un composé comprenant des groupes chimiques aptes à s'orienter sous l'effet d'un champ électromagnétique et/ou d'un rayonnement photonique ;
b)le traitement de la couche composite pour obtenir la réticulation du matériau formant une matrice ;
ledit procédé comprenant, en outre, une étape c) consistant à soumettre ledit substrat revêtu de ladite couche composite à un champ électromagnétique et/ou un rayonnement photonique, ladite étape c) étant réalisée simultanément à l'étape a), lorsque l'on soumet ladite couche à un rayonnement photonique ou étant réalisée avant et/ou simultanément à l'étape b), lorsque l'on soumet ladite couche à un champ électromagnétique, sachant que le champ électromagnétique est appliqué au contact du substrat, cette étape c) étant réalisée de sorte à aligner selon une direction prédéterminée les groupes chimiques mentionnées à l'étape a).
Application au domaine de la microélectronique, aux membranes séparatrices, aux membranes de diffusion, aux détecteurs moléculaires, aux matériaux optiques, aux masques polymères.
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