发明授权
- 专利标题： DRY-PROCESS FOR THE PREPARATION OF SILICA PARTICLES
- 专利标题（中）： 干法制备用于生产二氧化硅
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申请号： EP07744191.3申请日： 2007-05-22
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公开(公告)号： EP2028158B1公开(公告)日： 2017-01-18
- 发明人: OHARA, Masakazu , TAKATA, Yukihiro , AOKI, Hiroo , UEDA, Masahide
- 申请人： Tokuyama Corporation
- 申请人地址： 1-1, Mikage-cho Shunan-shi, Yamaguchi 745-8648 JP
- 专利权人： Tokuyama Corporation
- 当前专利权人： Tokuyama Corporation
- 当前专利权人地址： 1-1, Mikage-cho Shunan-shi, Yamaguchi 745-8648 JP
- 代理机构： Duckworth, Timothy John
- 优先权： JP2006161592 20060609; JP2006168133 20060616
- 国际公布： WO2007142047 20071213
- 主分类号： C01B33/18
- IPC分类号： C01B33/18 ; C08K3/36 ; C08L101/00 ; G03G9/08 ; G03G9/097
公开/授权文献
- EP2028158A1 DRY-PROCESS FINE SILICA PARTICLE 公开/授权日：2009-02-25
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