发明授权
- 专利标题： APPARATUS, SYSTEM AND METHOD FOR STORING HIGH LEVEL WASTE
- 专利标题（中）： 设备，系统和方法，用于存储高放射性废物
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申请号： EP07812553.1申请日： 2007-07-02
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公开(公告)号： EP2041753B1公开(公告)日： 2013-10-09
- 发明人: SINGH, Krishna P. , AGACE, Stephen J.
- 申请人： Holtec International, Inc.
- 申请人地址： 555 Lincoln Drive West Marlton, NJ 08053 US
- 专利权人： Holtec International, Inc.
- 当前专利权人： Holtec International, Inc.
- 当前专利权人地址： 555 Lincoln Drive West Marlton, NJ 08053 US
- 代理机构： Franzolin, Luigi
- 优先权： US818100P 20060630; US837956P 20060816
- 国际公布： WO2008005932 20080110
- 主分类号： G21F5/005
- IPC分类号： G21F5/005 ; G21F5/008
公开/授权文献
- EP2041753A2 APPARATUS, SYSTEM AND METHOD FOR STORING HIGH LEVEL WASTE 公开/授权日：2009-04-01
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