Lithographiesystem und Verfahren zur Regelung eines Lithographiesystems

发明授权

EP2128700B1 Lithographiesystem und Verfahren zur Regelung eines Lithographiesystems 有权

专利标题： Lithographiesystem und Verfahren zur Regelung eines Lithographiesystems
专利标题（英）： Lithography system and method for regulating same
申请号： EP09006796.8

申请日： 2009-05-20
公开(公告)号： EP2128700B1

公开(公告)日： 2017-07-12
发明人: Heiland, Peter
申请人： Integrated Dynamics Engineering GmbH
申请人地址： Hermannstraße 9-13 65479 Raunheim DE
专利权人： Integrated Dynamics Engineering GmbH
当前专利权人： Integrated Dynamics Engineering GmbH
当前专利权人地址： Hermannstraße 9-13 65479 Raunheim DE
代理机构： Kampfenkel, Klaus
优先权： DE102008026077 20080530
主分类号： G03F7/20
IPC分类号： G03F7/20

公开/授权文献

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IPC分类:

G	物理
G03	摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F	图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备（照相排版装置入B41B；为摄影用的感光材料或处理入G03C；电记录、感光层或处理入G03G）
G03F7/00	图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备（用于特殊工艺的光致抗蚀剂结构见相关的位置，例如，B44C，H01L，例如，H01L21/00，H05K）
G03F7/20	.曝光及其设备（复制用照相印制设备入G03B27/00）