- 专利标题： LITHOGRAPHIC APPARATUS
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申请号： EP08741685.5申请日： 2008-04-29
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公开(公告)号： EP2142961B1公开(公告)日： 2019-06-05
- 发明人: STAALS, Frank , LOF, Joeri , LOOPSTRA, Erik, Roelof , TEL, Wim, Tjibbo , MOEST, Bearrach
- 申请人： ASML Netherlands B.V.
- 申请人地址： De Run 6501 5504 DR Veldhoven NL
- 专利权人： ASML Netherlands B.V.
- 当前专利权人： ASML Netherlands B.V.
- 当前专利权人地址： De Run 6501 5504 DR Veldhoven NL
- 代理机构： Raukema, Age
- 优先权： US797505 20070503
- 国际公布： WO2008136666 20081113
- 主分类号： G03F7/20
- IPC分类号： G03F7/20 ; G03F9/00
公开/授权文献
- EP2142961A2 IMAGE SENSOR FOR LITHOGRAPHY 公开/授权日：2010-01-13
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