发明授权
EP2335118B1 PROTECTION MODULE FOR EUV LITHOGRAPHY APPARATUS, AND EUV LITHOGRAPHY APPARATUS
有权
EUV光刻设备保护模块和EUV光刻设备
- 专利标题： PROTECTION MODULE FOR EUV LITHOGRAPHY APPARATUS, AND EUV LITHOGRAPHY APPARATUS
- 专利标题（中）： EUV光刻设备保护模块和EUV光刻设备
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申请号： EP09777597.7申请日： 2009-08-01
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公开(公告)号： EP2335118B1公开(公告)日： 2017-06-14
- 发明人: EHM, Dirk, Heinrich , LAUFER, Timo , BANNEY, Ben , KUGLER, Jens , NIEKEN, Ulrich , KELLER, Franz
- 申请人： Carl Zeiss SMT GmbH
- 申请人地址： Rudolf-Eber-Strasse 2 73447 Oberkochen DE
- 专利权人： Carl Zeiss SMT GmbH
- 当前专利权人： Carl Zeiss SMT GmbH
- 当前专利权人地址： Rudolf-Eber-Strasse 2 73447 Oberkochen DE
- 代理机构： Werner & ten Brink
- 优先权： DE102008041827 20080905; US94744P 20080905
- 国际公布： WO2010025798 20100311
- 主分类号： G03F7/20
- IPC分类号： G03F7/20
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