发明公开
EP2348546A2 Composition for forming n-type diffusion layer, method for forming n-type diffusion layer, and method for producing photovoltaic cell
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一种用于形成n型扩散层的组合物，用于形成用于制造光伏电池的n型扩散层和方法的方法
- 专利标题： Composition for forming n-type diffusion layer, method for forming n-type diffusion layer, and method for producing photovoltaic cell
- 专利标题（中）： 一种用于形成n型扩散层的组合物，用于形成用于制造光伏电池的n型扩散层和方法的方法
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申请号： EP11151994.8申请日： 2011-01-25
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公开(公告)号： EP2348546A2公开(公告)日： 2011-07-27
- 发明人: Machii, Youichi , Yoshida, Masato , Nojiri, Takeshi , Okaniwa, Kaoru , Iwamuro, Mitsunori , Adachi, Shuuichirou , Aoyagi, Takuya
- 申请人： Hitachi Chemical Co., Ltd.
- 申请人地址： 1-1, Nishi-Shinjuku 2-chome, Shinjuku-ku Tokyo 163-0449 JP
- 专利权人： Hitachi Chemical Co., Ltd.
- 当前专利权人： Hitachi Chemical Co., Ltd.
- 当前专利权人地址： 1-1, Nishi-Shinjuku 2-chome, Shinjuku-ku Tokyo 163-0449 JP
- 代理机构： HOFFMANN EITLE
- 优先权： JP2010013517 20100125; JP2010208429 20100916; JP2011005313 20110113
- 主分类号： H01L31/18
- IPC分类号： H01L31/18 ; H01L31/0236 ; H01L21/225
摘要：
The composition for forming an n-type diffusion layer in accordance with the present invention contains a donor element-containing glass powder and a dispersion medium. An n-type diffusion layer and a photovoltaic cell having an n-type diffusion layer are prepared by applying the composition for forming an n-type diffusion layer, followed by a thermal diffusion treatment.
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