发明公开
- 专利标题： METHODS OF MAKING AND DEPOSITION METHODS USING HAFNIUM- OR ZIRCONIUM-CONTAINING COMPOUNDS
- 专利标题（中）： 使用连接铪涂装工艺
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申请号： EP10829175.8申请日： 2010-11-05
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公开(公告)号： EP2499274A2公开(公告)日： 2012-09-19
- 发明人: DUSSARRAT, Christian , OMARJEE, Vincent M. , PALLEM, Venkateswara
- 申请人： L'Air Liquide Société Anonyme pour l'Etude et l'Exploitation des Procédés Georges Claude
- 申请人地址： 75, Quai d'Orsay 75007 Paris FR
- 专利权人： L'Air Liquide Société Anonyme pour l'Etude et l'Exploitation des Procédés Georges Claude
- 当前专利权人： L'Air Liquide Société Anonyme pour l'Etude et l'Exploitation des Procédés Georges Claude
- 当前专利权人地址： 75, Quai d'Orsay 75007 Paris FR
- 代理机构： Grout de Beaufort, François-Xavier
- 优先权： US259433P 20091109
- 国际公布： WO2011057114 20110512
- 主分类号： C23C16/18
- IPC分类号： C23C16/18 ; C23C16/455 ; C23C16/44 ; H01L21/205
摘要：
Disclosed are hafnium- or zirconium-containing compounds. The compounds may be used to deposit hafnium- or zirconium-containing layers using vapor deposition methods such as chemical vapor deposition or atomic layer deposition. The hafnium- or zirconium-containing compounds include a ligand and at least one aliphatic group as substituents selected to have greater degrees of freedom than the substituents disclosed in the prior art.
公开/授权文献
- EP2499274B1 DEPOSITION METHODS USING HAFNIUM-CONTAINING COMPOUNDS 公开/授权日：2016-04-20
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