发明授权
- 专利标题： DISLOCATION AND STRESS MANAGEMENT BY MASK-LESS PROCESSES USING SUBSTRATE PATTERNING
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申请号： EP11724287.5申请日： 2011-04-26
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公开(公告)号： EP2564415B1公开(公告)日： 2018-12-26
- 发明人: VAN KANEL, Hans , MIGLIO, Leonida
- 申请人： Pilegrowth Tech S.r.l.
- 申请人地址： Via per Cernobbio 11 22100 Como IT
- 专利权人： Pilegrowth Tech S.r.l.
- 当前专利权人： Pilegrowth Tech S.r.l.
- 当前专利权人地址： Via per Cernobbio 11 22100 Como IT
- 代理机构： De Bortoli, Eros
- 优先权： US328203P 20100427
- 国际公布： WO2011135432 20111103
- 主分类号： H01L21/02
- IPC分类号： H01L21/02
摘要：
Structures and methods for producing active layer stacks of lattice matched, lattice mismatched and thermally mismatched semiconductor materials, with low threading dislocation densities, no layer cracking and minimized wafer bowing, by using epitaxial growth onto elevated substrate regions in a mask-less process.
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