发明公开
EP2664628A4 RESIN COMPOSITION FOR PHOTOIMPRINTING, PATTERNING METHOD AND ETCHING MASK
有权
树脂组合物拍摄和结构及其方法蚀刻掩模
- 专利标题： RESIN COMPOSITION FOR PHOTOIMPRINTING, PATTERNING METHOD AND ETCHING MASK
- 专利标题（中）： 树脂组合物拍摄和结构及其方法蚀刻掩模
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申请号： EP11855405申请日： 2011-12-02
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公开(公告)号： EP2664628A4公开(公告)日： 2014-07-23
- 发明人: HAYASHIDA YOSHIHISA , SATSUKA TAKURO , IKEDA TERUYO , FUTAESAKU NORIO , TAKEMORI TOSHIFUMI
- 申请人： MARUZEN PETROCHEM CO LTD
- 专利权人： MARUZEN PETROCHEM CO LTD
- 当前专利权人： MARUZEN PETROCHEM CO LTD
- 优先权： JP2011004522 2011-01-13
- 主分类号： C08F2/50
- IPC分类号： C08F2/50 ; C08F220/30 ; C08F271/02 ; H01L21/027
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