发明公开
EP2707776A4 POSITIVE RESIST COMPOSITION, AND RESIST FILM, RESIST-COATED MASK BLANK, RESIST PATTERN FORMING METHOD AND PHOTOMASK EACH USING THE COMPOSITION
有权
POSITIVLACKZUSAMMENSETZZEN LACKFILM，LACKBESCHICHTETER MASKENROHLING，LACKSTRUKTUR-BILDUNGSVERFAHREN UND PHOTOMASKE MIT DER ZUSAMMENSETZUNG
- 专利标题： POSITIVE RESIST COMPOSITION, AND RESIST FILM, RESIST-COATED MASK BLANK, RESIST PATTERN FORMING METHOD AND PHOTOMASK EACH USING THE COMPOSITION
- 专利标题（中）： POSITIVLACKZUSAMMENSETZZEN LACKFILM，LACKBESCHICHTETER MASKENROHLING，LACKSTRUKTUR-BILDUNGSVERFAHREN UND PHOTOMASKE MIT DER ZUSAMMENSETZUNG
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申请号： EP12781913申请日： 2012-05-11
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公开(公告)号： EP2707776A4公开(公告)日： 2015-01-21
- 发明人: TSUCHIMURA TOMOTAKA , INASAKI TAKESHI
- 申请人： FUJIFILM CORP
- 专利权人： FUJIFILM CORP
- 当前专利权人： FUJIFILM CORP
- 优先权： JP2011107702 2011-05-12
- 主分类号： G03F7/039
- IPC分类号： G03F7/039 ; G03F7/20
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